本公司直供平板狀系列氧化鋁研磨拋光液 進口 99.8 

1、平板型氧化鋁研磨拋光液
1）平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的**大區別是：片狀，硬度高，粒度均勻。
2）特點為：
A、形狀為平板狀，即片狀，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可減少磨片機的數量、人工和磨削時間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍；
B、由于形狀為平板狀，故對于被磨對象（如半導體硅片等）來說不易劃傷，合格品率可提高10%至15%，如半導體硅片，其合格品率一般能達到99%以上；
C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數量的產品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節約40%至50%；
D、與國外同類產品相比，質量達到或超過國外同類產品，品質已達到國際標準，但產品價格只有國外同類產品的60%--70%；
E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優良性能，故加工的產品合格品率高，質量穩定，生產成本只有原來的50%-60%。（具體數據可見用戶報告）
3、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途 :
1）電子行業 : 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體的研拋。
2）玻璃行業 : 硬質玻璃和顯象管玻殼的加工。
3）涂附行業 : 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。
4）金屬和陶瓷加工業。
氧化鋁(AL2O3)性能指標：
   物理指標：
  
化學名稱 外觀 密度 莫氏硬度 顯微硬度
α- AL2O3 白色 3.95-3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm

 化學指標：
??
化學成份 指標(%) 測度結果(%)
AL2O3 ＞99.0 99.36
SiO2 ＜0.2 0.027
Na2O ＜0.6 0.35
Fe2O3 ＜0.1 0.03

產品粒度：
粒度號 平均粒度(μm)
TWA50 44.5±2.5
TWA45 36.0±2.3
TWA40 31±2.0
TWA35 25.5±1.7
TWA30 21.5±1.5
TWA25 17.4±1.3
TWA20 14.2±1.0
TWA15 10.5±0.8
TWA12 8.2±0.6
TWA9 6.4±0.6
TWA5 4.7±0.5
TWA3 3.1±0.4

無錫中晶材料科技有限公司
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