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首頁 > 供應產品 > 供應電鍍添加劑 電鍍原料 華凱WK-3&4堿銅光劑 堿銅3#添加劑 堿銅4#添加劑
供應電鍍添加劑 電鍍原料 華凱WK-3&4堿銅光劑 堿銅3#添加劑 堿銅4#添加劑
產品: 瀏覽次數:719供應電鍍添加劑 電鍍原料 華凱WK-3&4堿銅光劑 堿銅3#添加劑 堿銅4#添加劑 
品牌: 華凱
交貨地點: 廣東
包裝與運輸貯存: 25KG/桶
單價: 28.00元/公斤
最小起訂量: 1000 公斤
供貨總量: 10000 公斤
發貨期限: 自買家付款之日起 天內發貨
有效期至: 長期有效
最后更新: 2021-06-24 13:32
 
詳細信息
交貨地點 廣東
包裝與運輸貯存 25KG/桶
包裝 桶裝
保質期 24月
產地 廣東
產品規格 25KG/桶
規格 正常規格
品牌 華凱
型號 WK-3 & 4

種類:堿銅(氰化鍍銅) 類別:光亮劑
執行標準:ROSH 主要用途:表面處理

WK—3&4高效能光亮氰化銅電鍍工藝

一、   特點

1.銅鍍層結晶細致,光亮及均勻;

2.電流密度范圍寬闊,覆蓋能力極佳;

3.有機或無機雜質容忍度高,易于控制;

4.適用于鋼鐵、銅、青銅等不同基體的工件,尤為適合于鋅合金鑄件;

5.鍍液可用氰化鉀或氰化鈉配制,效果同樣理想。

二、   鍍液的組成

氰化鉀配方:

原    料

范      圍

氰化亞銅CuCN

53—71克/升

氰化鉀KCN

95—130克/升

氫氧化鉀KOH

1—3克/升

WK—01諾切液

30—50毫升/升      

WK—3堿銅添加劑

1—3毫升/升

WK—4堿銅添加劑

4—7毫升/升

氰化鈉配方:

原    料

范      圍

氰化亞銅CuCN

53—71克/升

氰化鈉NaCN

73—98克/升

氫氧化鈉NaOH

1—3克/升

WK—01諾切液

30—50毫升/升

WK—3堿銅添加劑

1—3毫升/升

WK—4堿銅添加劑

4—7毫升/升

三、   操作條件

操作指數

標準參數

金屬銅含量

37—50克/升

游離氰化鈉(鉀)

15—20(20—27)克/升

氫氧化鈉

1—3克/升

WK—01諾切液

40毫升/升

WK—3堿銅添加劑

2毫升/升

WK—4堿銅添加劑

6毫升/升

溫度

45—60℃

電流密度

0.5—5安培/平方分米

攪拌方法

空氣或陰極搖擺

陽極

無氧電解銅(需陽極袋)

過濾

連續過濾(4—8循環/小時)

四、   鍍液之配制

1、注入三份之二的水于已清洗之代用缸中,加熱至50℃;

2、加入所需的氰化鈉攪拌至完全溶解后.把氰化亞銅用純水調成糊狀,過攪拌邊緩慢的加入鍍缸中,然后加入計量的氫氧化鉀。.

3.待完全溶解后,加入2-5克/升的活性炭粉,連續攪拌1-2個小時,靜置2-5小時后過濾干凈.然后用小電流電解3-5小時,按開缸量加入添加劑試鍍。

五. 組成原料的功用

氰化亞銅CuCN:氰化銅是供給鍍液銅離子的來源。鍍液中銅離子含量應在37—50克/升。

如銅金屬含量在35克/升以下,所用的電流密度(在陰極搖擺方法)不能超越3安培/平方分米。相反的,當采用高電流密度時,金屬含量也要提高。總括來說,電流密度與鍍液中的適當金屬含量,攪拌程度,游離氰化鉀含量,溫度和光亮劑含量等都有相互關連。

氰化鈉NaCN:鍍液中的游離氰化鈉與銅含量的相互關系,當銅含量為37—50克/升,游離氰化鈉應在15—20克/升以下,所以當游離氰化鈉在10克/升以下,低電流密度區會起云霧,當游離氰化鈉在20克/升以上,陰極電流效率減低,同時陰極會有大量氣體產生。所以游離氰化鈉的最佳值隨金屬銅量而定。例如金屬銅含量為35克/升,而需要用低電流密度時,游離氰化鈉應為12克/升左右。

氫氧化鈉NaOH:氫氧化鈉可提高鍍液的導電性。如工件為鋅合金鑄件時,氫氧化鈉宜保持在 1-3克/升,以免堿度太高而侵蝕鋅合金。如工件全部是鋼鐵件時,氫氧化鈉濃度可調升至10—30克/升。

六.   添加劑的作用和補充

WK—01諾切液:   減低陽極鈍化,抑制陽極溶解速率。含量為30—50毫升/升。

WK—3堿銅添加劑: 為有機光亮劑,能使高電流密度區光亮,更是表面活性劑,減低鍍層出現針孔機會。

WK—4堿銅添加劑:與WK—3堿銅添加劑一起運用時,能得到全面光澤,即由高至低電流密度區同樣的光亮

添加劑的消耗量和補加

WK—3堿銅添加劑           80-120ml/KAh

WK—4堿銅添加劑         250-350 ml/KAh

七常見問題及解決辦法

現象

故障原因

處理方法

光亮范圍不寬

游離氰化鈉過量 金屬銅含量過低 陽極面積過小 工作電流過大 補充氰化亞銅 補充氰化亞銅 增大陽極面積 降低工作電流  

鍍層低電流密度區不光亮

游離氰化鈉不足 無機雜質污染 補加氰化鈉 低電流處理  

鍍層不夠光亮

WK—3堿銅添加劑不足 鍍液成分比例失調 鍍液有雜質 補加WK—3堿銅添加劑 調整鍍液成分,補加氰化亞銅 低電流處理,加炭粉過濾  

鍍層光亮但顏色偏白

WK—4堿銅添加劑不足

補加WK—4堿銅添加劑

出現毛刺針孔等

添加劑不足 銅含量過高 混入不溶性雜質 補充添加劑 補加氰化鈉 過濾  

電流效率過低

1.游離氰化鈉過高

2.碳酸鈉含量過高

3.鉻離子含量過高

1.補加氰化亞銅

2.除碳酸鈉

3.除鉻

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