| 認證 | ROHS |
|---|---|
| 包裝 | 桶裝 |
| 產地 | 廣東 |
| 處理溫度 | 15—20℃ |
| 供貨地 | 廣東 |
| 類別 | 光亮劑 |
| 品牌 | 華凱 |
| 型號 | WK-2081走位劑 WK-2081走亮劑 WK-2081開缸劑 |
WK-2081滾鍍酸性鍍銅工藝
一、特性：
1、高整平，走位性能佳，銅鍍屋清晰，沒有鍍層霧氣
2、無針孔，消耗平衡
3、主光劑消耗量低
4、可用于滾鍍，并且操作穩定，不需要經常大處理鍍液
二、滾鍍的工藝參數
| 原料及操作條件 | 范圍 | **值 |
| 硫酸銅 硫酸（濃） 氯離子 WK-2081 A填平劑 WK-2081 Mu開缸劑 溫度 電壓 攪拌 陽極 | 150--200/升 80-100克/升 70—120ppm 0.2—0.6毫升/升 5-10毫升/升 15—20℃ 5—10V 強烈而均勻的空氣攪拌 含磷的銅板 | 170克/升 90克/升 80 ppm 0.4毫升/升 8毫升/升 17℃
|
三、光亮劑消耗與補充
WK-2081開缸劑：只在鍍液開缸時及活性炭大處理后產生中鍍液帶出損失時使用。開缸劑不足時，會使鍍層的高中電力密度區產生條紋狀鍍層；開缸劑過多時會使鍍層有霧狀，也可取代部分WK-2081B劑的用量。使鍍液有更好的分散能力
WK-2081A劑：主要作用在低電流密度區有優良的光亮度填平性，按照鍍層的光亮度與平整性及操作溫度其消耗量各不相同（消耗量隨溫度升高而遞增）。含量過低時，整個電流密度區的填平度會下降；含量過多時，低電流密度區發黑，沒有填平度，與其它位置鍍層有明顯的分界介，但仍有光亮。
氯離子過多過少的氯離子都會影響鍍層的光亮度與整平度，**范圍在80-100 ppm，過少時會出現樹枝狀條紋；過多時影響低電流區光亮度與整平度。
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