WK-2081滾鍍酸性鍍銅工藝

一、特性：

1、高整平，走位性能佳，銅鍍屋清晰，沒有鍍層霧氣

2、無針孔，消耗平衡

3、主光劑消耗量低

4、可用于滾鍍，并且操作穩(wěn)定，不需要經(jīng)常大處理鍍液

二、滾鍍的工藝參數(shù)

三、光亮劑消耗與補充

WK-2081開缸劑：只在鍍液開缸時及活性炭大處理后產(chǎn)生中鍍液帶出損失時使用。開缸劑不足時，會使鍍層的高中電力密度區(qū)產(chǎn)生條紋狀鍍層；開缸劑過多時會使鍍層有霧狀，也可取代部分WK-2081B劑的用量。使鍍液有更好的分散能力

WK-2081A劑：主要作用在低電流密度區(qū)有優(yōu)良的光亮度填平性，按照鍍層的光亮度與平整性及操作溫度其消耗量各不相同（消耗量隨溫度升高而遞增）。含量過低時，整個電流密度區(qū)的填平度會下降；含量過多時，低電流密度區(qū)發(fā)黑，沒有填平度，與其它位置鍍層有明顯的分界介，但仍有光亮。

氯離子過多過少的氯離子都會影響鍍層的光亮度與整平度，**范圍在80-100 ppm，過少時會出現(xiàn)樹枝狀條紋；過多時影響低電流區(qū)光亮度與整平度。

四、訂貨須知

1、如何訂貨：

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3、關(guān)于價格：本司所有產(chǎn)品均為參考價，如需定購請與我洽談，一律量大從優(yōu)。

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