| 品名 | 機械剝離氧化鋁基底二硫化鎢 |
|---|---|
| 牌號 | XFNANO |
| 規格 | 1 盒（目） |
| 級別 | 正常 |
| 用途范圍 | 科研 |
| 含量 | 正常 |
| 用途類別 | 科研 |
| 品牌 | 先豐納米 |
| 型號 | XFG19 |
產品名稱
中文名稱: 機械剝離氧化鋁基底單層二硫化鎢
英文名稱：Mechanical exfoliation WS2 on Al2O3
性質
形態：薄膜
參數
基底：氧化鋁
基底尺寸：10 mmx10 mm
單層WS2面積：>10 μm2
應用
先豐納米新推出機械剝離制備的二硫化鎢，該類材料具有缺陷少，優異的光學性質，可以研究層數和熒光效應，此外，由于保持了原有晶格結構，所以該類材料是制備器件的理想材料。
其他信息
詳情請發郵件至：sale@xfnano.com
